近年來，以第三代半導體材料為基礎的新興技術正迅速崛起，碳化硅由于具有寬帶隙、低電阻、良好的導熱性和導電性等一系列優點使其可以作為第三代半導體材料的代表成為全球半導體市場爭奪的焦點，作為耐高溫高頻的器件廣泛的應用于LED燈、集成電路和逆變器中。隨著信息技術和科技的不斷進步，市場上對碳化硅的表面平整度提出了更高的要求，工業要求最終的碳化硅晶圓表面光滑平整無缺陷，而傳統的工藝如機械拋光和化(hua)學拋(pao)光，前者單(dan)純利用(yong)簡單(dan)的(de)機械(xie)研(yan)磨，后者僅依(yi)靠腐(fu)蝕(shi)劑的(de)化(hua)學反應，兩者都會對晶圓表面(mian)造成損傷。目前，唯一能(neng)解決這個難題(ti)的(de)就是將(jiang)二者結(jie)合(he)起(qi)來——化(hua)學機械(xie)拋(pao)光技術（CMP）。

       化學機械拋光技術是目前集成電路芯片全局平面化的最好方法。該技術將拋光液漿料的化學作用和漿料中磨粒的機械磨削作用緊密地結合在一起，整平拋光片表面，因此，拋光液是CMP技術中的關鍵因素。拋光液主要由磨料、溶劑和添加(jia)劑組成，其中磨料(liao)的(de)種(zhong)類(lei)、硬度(du)、形(xing)貌、大小(xiao)、粒(li)度(du)分(fen)布會影響到拋(pao)光(guang)質量的(de)好壞，比如磨料(liao)的(de)硬度(du)過(guo)(guo)大、形(xing)貌不規(gui)則會引起CMP過(guo)(guo)程中機械作用(yong)的(de)比重增(zeng)大，堅硬的(de)、形(xing)貌不規(gui)則的(de)磨料(liao)與被拋(pao)光(guang)工件的(de)表(biao)面接觸，雖(sui)然會使得(de)材料(liao)去除效(xiao)率大幅度(du)增(zeng)加(jia)，但工件表(biao)面會出現較(jiao)多的(de)劃傷、坑洼(wa)等不平(ping)坦現象，使得(de)表(biao)面粗(cu)糙度(du)較(jiao)大。

       目(mu)前市(shi)場(chang)上使用最為(wei)廣泛的(de)幾種磨(mo)料(liao)是(shi)SiO2、CeO2、Al2O3。SiO2拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)選擇性(xing)、分(fen)散性(xing)好，機械磨(mo)損(sun)性(xing)能較好，化學性(xing)質活潑，并且(qie)后(hou)清洗過程處理(li)較容(rong)易(yi)；缺(que)點(dian)為(wei)在(zai)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)過程中易(yi)產生凝膠，對硬(ying)(ying)底(di)(di)材料(liao)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)速(su)率低；CeO2拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)的(de)優點(dian)是(shi)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)速(su)率高，材料(liao)去除速(su)率高，缺(que)點(dian)是(shi)黏度大、易(yi)劃傷，且(qie)選擇性(xing)不(bu)好，后(hou)續清洗困難(nan)；Al2O3拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)的(de)缺(que)點(dian)在(zai)于(yu)(yu)選擇性(xing)低、分(fen)散穩(wen)定性(xing)不(bu)好、易(yi)團聚等，但對于(yu)(yu)硬(ying)(ying)底(di)(di)材料(liao)襯底(di)(di)等卻具有優良的(de)去除速(su)率。隨著LED、第三代半導體的(de)發展(zhan)，Al2O3在(zai)CMP中的(de)應用顯得更為(wei)重要。

       前面我們說(shuo)到磨(mo)料的(de)(de)形貌、大小、粒度(du)分布等(deng)(deng)會影(ying)響到拋光(guang)質(zhi)量(liang)的(de)(de)好壞，對研磨(mo)拋光(guang)所(suo)用(yong)的(de)(de)高(gao)純氧(yang)化鋁而言，利用(yong)不(bu)(bu)同(tong)制備(bei)方(fang)法(fa)(fa)所(suo)得的(de)(de)氧(yang)化鋁性(xing)質(zhi)也不(bu)(bu)盡相同(tong)。目(mu)前，水解法(fa)(fa)、溶膠凝膠法(fa)(fa)等(deng)(deng)液相法(fa)(fa)是制備(bei)高(gao)品(pin)質(zhi)高(gao)純氧(yang)化鋁的(de)(de)常用(yong)方(fang)法(fa)(fa)，這些方(fang)法(fa)(fa)往(wang)往(wang)最(zui)終需要對中(zhong)間產物(wu)進行高(gao)溫煅燒，煅燒工藝對最(zui)終產品(pin)的(de)(de)性(xing)能(neng)同(tong)樣有一些微妙的(de)(de)影(ying)響，并最(zui)終影(ying)響拋光(guang)效果。